1． 仪器名称：激光直写

型号和规格：MicroWriter ML®2

生产厂商：英国DMO公司

2． 仪器主要用途

Microwriter ML II无掩膜激光直写系统是专门为科研实验室设计开发的多功能激光直写光刻系统，不仅具有无掩模板直写系统的灵活性，还拥有高书写速度、高分辨率和低成本的特点。Microwriter ML II采用集成化设计、全自动控制，可靠性高，操作简便，是微电子、半导体研究中代替传统光刻工艺的理想工具。

3． 主要技术指标

最大加工区域：直径200 mm

宽域曝光模式，包含405 nm和375 nm两个曝光波段

激光最高分辨率：0.6 µm

自动对焦精度： 100 nm

可识别DXF, CIF, GDSII, Gerber格式文件

4． 样品要求（如有）

样品尺寸：5 mm*5 mm-50 mm*50 mm

5． 安放地点：软件园校区教研楼超净间

6． 联系人：王一鸣，邮箱：nano@sdu.edu.cn