1． 仪器名称：电子束曝光系统（EBL）

型号和规格：e-Line plus

生产厂商：Raith

2． 仪器主要用途

eLINE Plus是一款高性能电子束曝光（EBL）系统，它能同时应用多种纳米加工技术。它拥有世界上专业EBL系统中最小直径的电子束束斑（<1.6nm），最小加工线宽可达8nm。eLINE Plus使用包括高精度激光干涉样品台、高速高精度图形发生器、图形识别自动套刻等先进的电子束曝光技术，能够同时满足超高分辨率和大面积图形的微纳加工要求。

3． 主要技术指标

最小线宽7 nm，电子束胶为PMMA 950K A4（positive）

EHT：10kV、20kV

Aperture：7μm，20μm，30μm

4． 样品要求（如有）

衬底易导电

5． 安放地点：软件园校区教研楼超净间

6． 联系人：王一鸣，邮箱：nano@sdu.edu.cn