1． 仪器名称：紫外曝光系统

型号和规格：MBJ4

生产厂商：SUSS

2． 仪器主要用途

光刻胶紫外曝光和套刻曝光，MJB4配有高可靠和高精度的对准系统，同时具备亚微米量级的高分辨率图形转移能力。

3． 主要技术指标

（1）两种紫外光源：365 nm（功率密度～14 mW/cm²）， 405 nm（功率密度～15 mW/cm²）.

（2）四种接触模式： Soft contact, Hard contact, Vacuum contact, Low vacuum contact.

（3）Mask Holder兼容3– 5寸的光刻版.

4． 样品要求（如有）

样品尺寸小于2 英寸

5． 安放地点：软件园校区教研楼超净间

6． 联系人：贾磊，邮箱：nano@sdu.edu.cn

1. 仪器名称：光刻机系统（包括匀胶机和烘胶台）

型号和规格：H94-25C

生产厂商：四川南光

2. 仪器主要用途

在半导体器件制备过程中做光刻用途。

3. 主要技术指标

硬接触曝光的最小分辨率可达3 µm。

样品尺寸：样品尺寸小于2 英寸

4. 安放地点：软件园校区教研楼超净间

5. 联系人：栾彩娜，邮箱：cnluan@sdu.edu.cn